【光電工程】影響因子是多少？

《光電工程》（月刊）創(chuàng)刊于1974年，由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所主辦。本刊反應(yīng)光電科學(xué)與工程領(lǐng)域的最新成就與發(fā)展，促進(jìn)國內(nèi)外的學(xué)術(shù)交流，為我國光電技術(shù)的發(fā)展做出貢獻(xiàn)。本刊適合相關(guān)領(lǐng)域大專院校師生、研究院所科研人員、工廠工程技術(shù)人員與管理人員等參考。榮獲四川省第二次期刊質(zhì)量考評自然科學(xué)期刊學(xué)術(shù)類質(zhì)量一級期刊；四川省第二屆優(yōu)秀期刊評選科技類期刊三等獎(jiǎng)。

《光電工程》本刊刊登內(nèi)容包括工程光學(xué)和光電技術(shù)方面的學(xué)術(shù)論文和技術(shù)報(bào)告，主要有自適應(yīng)光學(xué)，應(yīng)用光學(xué)，微光學(xué)，光電捕獲跟蹤測量技術(shù)，光學(xué)設(shè)計(jì)，薄膜光學(xué)，自動(dòng)控制，電視技術(shù)，激光技術(shù)，光刻，精密刻劃和光電傳感技術(shù)，光通信，光計(jì)算，以及光學(xué)方面的其它高新技術(shù)。