【光學(xué)儀器】影響因子是多少？

《光學(xué)儀器》（雙月刊）創(chuàng)刊于1979年，由中國儀器儀表學(xué)會、上海理工大學(xué)上海光學(xué)儀器研究所、中國光學(xué)學(xué)會工程光學(xué)專業(yè)委員會主辦。本刊通過學(xué)術(shù)交流、行業(yè)科技信息傳播、科研成果推廣，保進我國光學(xué)工業(yè)的發(fā)展并滿足市場經(jīng)濟的需要，為廣大讀者服務(wù)。內(nèi)容包含：光學(xué)系統(tǒng)、設(shè)計與研究、儀器及裝置、測試技術(shù)、應(yīng)用技術(shù)、光學(xué)材料與元器件、薄膜、工藝、綜述、新產(chǎn)品技術(shù)與應(yīng)用、市場信息、企業(yè)簡介，以及行業(yè)信息與動態(tài)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化等欄目。其內(nèi)容豐富、信息量大。